旋涂法镀膜的原理是什么

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  镀膜原理：

在真空镀膜中有一种旋涂镀膜法，它包括2个过程：低速滴胶和高速匀胶。离心加速度会使胶很快的匀开，然后多余的胶被甩离基片，整个基片上就会形成一层均匀的薄膜。对薄膜厚度和其它特性的影响因素主要有两个：胶体本身和最终的旋转速度。其中旋涂镀膜最重要的影响因素之一就是旋转的稳定性。哪怕是轻微的抖动，也会造成薄膜非常的不均匀。真空镀膜机

旋涂镀膜过程：

  滴胶：静止滴胶，顾名思义就是将少量的胶体滴到基片的中心位置或者上面就可以，可以人工滴胶，也可以使用专业的滴胶机。多弧离子镀膜机一般在滴胶过程中的转速比较低，比如500rpm就可以了。目的是为了将胶体摊开，覆盖住整个基片，也可以减少胶体的浪费，因为没有必要滴满整个基片。这种方法对本身湿润性很差胶体或者基片很有帮助，可以减少废液产生。真空蒸发镀膜机

  匀胶：滴胶之后，通常是在旋转速度相对较高的状态下匀胶，使其达到需要的厚度。一般这时的转速在1500-6000 rpm，当然还可以根据需要作出实际的调整。这时高速的稳定性能够发到要求，就要看厂家的产品质量了，我们凯美特的转速可以达到8000 rpm还非常稳定。固化：高速匀胶之后，如果有必要，膜层需要固化，这对薄膜非常有利，在使用之前，可以让膜层达性能达到稳定。如果没有固化，在使用过程中，膜层可能脱落。

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